平面拋光機(jī)具體介紹適用行業(yè)和使用范圍

發(fā)布日期：2021-10-14 作者：點(diǎn)擊：

　　平面拋光機(jī)具體介紹適用行業(yè)和使用范圍

　　平面拋光機(jī)，顧名思義，是用來(lái)清潔物體平面的粗糙部分，以達(dá)到鏡面效果。平面拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是盡可能獲得最大的拋光速度，以便盡快去除損傷層。拋光過(guò)程分為兩個(gè)階段。粗拋光的目的是去除拋光損壞的層，拋光率應(yīng)該很高。粗糙拋光引起的平面損傷是次要因素，但應(yīng)盡可能小。目的是消除粗糙拋光造成的平面損傷，減少拋光損傷。平面拋光機(jī)平面拋光時(shí)，樣品和拋光盤(pán)的研磨面應(yīng)絕對(duì)平行、均勻地壓在拋光盤(pán)上。同時(shí)，樣品應(yīng)沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑旋轉(zhuǎn)前后移動(dòng)，

平面拋光機(jī)

以避免拋光織物局部磨損過(guò)快。當(dāng)濕度過(guò)高時(shí)，拋光的磨料效應(yīng)會(huì)減弱，試樣的硬相會(huì)增加，鑄鐵中鋼和石墨相中的非金屬夾雜物會(huì)“拖曳”，潤(rùn)滑效應(yīng)會(huì)減弱，磨削平面會(huì)失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金鑄件平面會(huì)出現(xiàn)鑄件損傷現(xiàn)象和黃色現(xiàn)象。粗糙拋光面光滑，但無(wú)光澤，在顯微鏡下觀察磨削痕跡均勻精細(xì)，待精細(xì)拋光去除。在精密拋光過(guò)程中可適當(dāng)提高轉(zhuǎn)臺(tái)的轉(zhuǎn)速，拋光時(shí)間適合粗拋光過(guò)程中破損層的去除。拋光的平面像鏡子一樣明亮。這些劃痕在顯微鏡的清晰視野中是看不到的，但在對(duì)比度照明下仍然可以看到。